IT之家 1 月 7 日消息，据外媒 Daily Dark Web 今天报道，威胁行为者“1011”在暗网论坛 BreachForums 发文称，已成功入侵荷兰半导体供应商阿斯麦 ASML 的数据库系统。 这名威胁行为人士泄露了约 154 个 SQL ...

根据ASML官方资料显示，极紫外光最早起源于20世纪70年代俄罗斯启动的多层反射镜工程，随后在20世纪80年代被日本学者木下雄弘拍摄出了极紫外光源图像。不久之后，美国以及荷兰的技术实验室开始对极紫外光进行相关研究。

2023年8月，我国率先对镓、锗实施出口管制。要知道，这两种半导体关键材料，全球80%产量都来自中国。2024年，锑被纳入出口管制清单；2025年，进一步收紧对美出口，直接导致西方芯片成本上涨5%，全球供应链陷入混乱。

结合其他报道，这名黑客还在帖子中公开了技术示例，显示其泄露内容涉及数据库表结构，例如名为 host_disk_encryption_keys 的表格中包含主机标识、加密后的密钥内容密钥槽位、是否可解密等。

美国在半导体领域一直握着不少关键牌，从设计软件到光刻设备光源，都牢牢控制着。这几年，从2019年开始，他们就通过各种出口管制来针对中国企业，尤其是华为那些高科技公司，试图卡住脖子不让发展。

2025年12月15日，英特尔宣布该公司已成功安装并完成验收测试ASML Twinscan EXE:5200B，这是业界首款配备0.55数值孔径（High-NA）投影光学系统、专为商用芯片生产设计的高数值孔径EUV光刻机。该设备将用于开发英特尔的14A制造工艺，这将是全球首个在其最关键层依赖High-NA EUV光刻机的工艺节点。这一里程碑标志着High-NA EUV光刻技术正从早期研发阶段稳步迈 ...

中国大陆近期传出在极紫外光（EUV）曝光机领域取得关键进展，甚至被部分说法形容为中国版「曼哈顿计画」，引发外界关注是否可能动摇荷兰半导体设备龙头艾司摩尔（ASML）在全球EUV市场的主导地位。对此，ASML执行长富凯（Christophe ...

ASML去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机，同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机，预计可将半导体工艺推进 ...

IT之家 11 月 7 日消息，据《科创板日报》今日报道，光刻机巨头 ASML 的全球执行副总裁、中国区总裁沈波今日在 2025 进博会透露，目前，ASML 中国区员工人数已经超过 2000 人，相较去年有约 10% 的增长。 在本届进博会上，ASML 重点展示了全景光刻解决方案下的部分 ...

众所周知，制造7nm及以下工艺的芯片，需要用到EUV光刻机，而全球仅有ASML能够生产。 ASML在2015年，就推出了第一代EUV光刻机WINSCAN NXE：3400B，之后在2019年推出了NXE：3400C，2021年推出了NXE：3600D。 不过据称，NXE：3600D型号的EUV光刻机，支持的工艺可能仅到3nm，如果 ...

Investing.com - ASML 股价周一上涨，此前伯恩斯坦将这家荷兰芯片制造设备供应商升级为"跑赢大盘"评级，并将其列为2026年欧洲半导体股的首选，理由是内存投资加速、逻辑需求增强以及估值背景更具吸引力的组合。

2023年阿斯麦（ASML） 首次成为了全球最大的半导体设备制造商，取代了几十年来一直处于领先地位的应用材料公司 (Applied Materials) 。 近年来，晶圆厂对制造设备的需求持续激增，这因为让设备制造商收入也屡创新高。根据分析师 Dan Nystedt近日发布的研究简报 ...