多重曝光懂吗，把一层重复几次，一遍一遍叠线，线越描越细，简单说，用DUV去追EUV的效果，代价是慢，贵，难度高，良率也要命，但能不能顶，关键看工艺队伍有没有磨到位，不少人认为，做到5纳米，可能不是梦 ...

荷兰一家科技学院的董事在接受采访时说，中国与其花大把钱去搞光刻机研发，不如把这笔钱用在别的地方。这话听起来挺“理性”，甚至带着点“为你好”的语气。他说得没错，光刻机这东西确实难做。一台EUV光刻机，零件超过十万个，来自全球5000多家供应商，光是德国 ...

随着人工智能企业纷纷争抢支撑AI热潮所需的英伟达芯片，荷兰企业ASML已在供应链中抢占了关键赛道——打造用于芯片光刻、需搭配激光器的核心设备。 ASML的客户涵盖台积电、英特尔等企业，其生产的巨型精密设备可将微型电路刻制于硅芯片之上，在AI所需的高端微处理器配套设备市场中占据主导地位。 这家总部位于荷兰费尔德霍芬的企业，自去年4月以来股价已翻倍，仅本月涨幅就达25%；眼下其芯片制造客户正因芯片供应 ...

国际大行瑞银 (UBS)近日发布研报称，总部位于荷兰的光刻机巨头阿斯麦 (ASML Holding ...

编者注：本文作者汤之上隆先生为日本精密加工研究所所长，曾长期在日本制造业的生产第一线从事半导体研发工作，2000年获得京都大学工学博士学位，之后一直从事和半导体行业有关的教学、研究、顾问及新闻工作者等工作，曾撰写《日本“半导体”的失败 ...

从目前来看，许多厂商都在另辟蹊径，试图寻找另一条替代EUV光刻技术的途径，以生产更先进的工艺。比如日本NIL量产技术、英特尔的新3D堆叠、多芯片封装技术以及俄罗斯的X光的光刻机技术等。

近日据芯智讯报道，俄罗斯自研出EUV光刻机。这一重大突破或将打破ASML在该领域的技术垄断，为全球半导体产业带来新的变革。 EUV光刻机是制造先进芯片的关键设备，制造 EUV 光刻机的技术难度令人难以置信，全球还没有任何一个国家能单独造出EUV光刻机，即使 ...

众所周知，光刻技术是现代半导体制造的核心，直接决定了芯片的性能、尺寸和成本。在这场技术竞赛中，荷兰的ASML凭借其极紫外光（EUV）光刻技术占据了无可争议的霸主地位。不过，近日，国内外媒体及网络接连曝出佳能通过纳米压印光刻（NIL）以及中国通过 ...

ASML的反应来得快。2023年10月17日，美国又更新管制，ASML发声明，说影响有限，只针对中国少数先进晶圆厂，2023年财务展望不变。可转眼，中国管制生效，全球镓锗价格蹿升。ASML作为设备供应商，机器里用镓锗做掺杂和合金，供应链吃紧。高管们评 ...

ASML去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机，同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机，预计可将半导体工艺推进 ...

ASML意图靠先进的EUV光刻机维持，然而一季度的数据却显示中国市场继续是它的最大收入来源市场，占比近五成，由于对中国市场出售光刻机受到限制，对中国市场的销售收入减少，导致ASML的业绩出现大跌。 ASML公布的一季度业绩显示，营收同比下降21%，净利润 ...

目前全球仅有ASML一家能够生产EUV光刻机，而制造7nm以下芯片，又必须使用到EUV光刻机，所以ASML相当于卡住了全球先进晶圆厂的脖子。 于是ASML推出的1.5亿欧元的标准EUV光刻机，台积电等厂商不得不买，后来再推出3.5亿欧元的High NA EUV光刻机，intel们继续买。