根据ASML官方资料显示，极紫外光最早起源于20世纪70年代俄罗斯启动的多层反射镜工程，随后在20世纪80年代被日本学者木下雄弘拍摄出了极紫外光源图像。不久之后，美国以及荷兰的技术实验室开始对极紫外光进行相关研究。

但 10 月的财报又显示，中国市场需求韧性十足，远超预期。这让第二个传闻浮出水面：荷兰方面确实在协议中做出了让步，其政策从最初的审慎态度转向严格执行，这一变化影响了 ASML 的供应链调整。

成立于1984年，ASML总部位于荷兰，是全球最大的光刻机制造商，总市值超4000亿美元，也是欧洲最大的科技公司之一。根据市调机构Khaveen ...

ASML将与客户合作，力争在明年实现高NA机床的稳定运行，最大限度地减少停机时间。Fouquet预计，高NA光刻机将在2027年和2028年实现大规模量产。未来十年，ASML还将推出一项名为Hyper NA的更先进的技术。目前，该技术的研究工作已经启动。

Investing.com - ASML 股价周一上涨，此前伯恩斯坦将这家荷兰芯片制造设备供应商升级为"跑赢大盘"评级，并将其列为2026年欧洲半导体股的首选，理由是内存投资加速、逻辑需求增强以及估值背景更具吸引力的组合。

中国大陆近期传出在极紫外光（EUV）曝光机领域取得关键进展，甚至被部分说法形容为中国版「曼哈顿计画」，引发外界关注是否可能动摇荷兰半导体设备龙头艾司摩尔（ASML）在全球EUV市场的主导地位。对此，ASML执行长富凯（Christophe ...

2025年12月15日，英特尔宣布该公司已成功安装并完成验收测试ASML Twinscan EXE:5200B，这是业界首款配备0.55数值孔径（High-NA）投影光学系统、专为商用芯片生产设计的高数值孔径EUV光刻机。该设备将用于开发英特尔的14A制造工艺，这将是全球首个在其最关键层依赖High-NA EUV光刻机的工艺节点。这一里程碑标志着High-NA EUV光刻技术正从早期研发阶段稳步迈 ...

进入2025年，ASML接连放出重磅信号：如果荷兰政府无法保障其商业自主权，公司或将认真考虑把核心业务迁往他国。为此，荷兰甚至紧急启动了一项代号“贝多芬”的巨额补贴计划，试图用真金白银挽留。

ASML去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机，同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机，预计可将半导体工艺推进 ...

大陆近年积极发展科技业，路透社披露，大陆已成功生产EUV（极紫外光曝光机）原型机，但距离量产或商用仍有一大段差距。美国科技媒体Tom's Hardware进一步指出，大陆正积极建造 EUV（极紫外光）光刻系统的原型机，预 ...

众所周知，在芯片领域有一种特别重要，特别受关注，同时中国技术又相对落后的设备，那就是光刻机，芯片制造必不可少的设备之一。 特别是EUV光刻机，目前全球仅ASML一家能够制造，很多人称EUV光刻机是人类建造的最复杂的机器之一，所以ASML也被很多人奉上 ...

全球光刻机巨头阿斯麦首席执行官克里克里斯托夫·富凯（Christophe Fouquet）在专访时，谈到了被禁止向中国出口所有EUV设备及最先进的深紫外光刻设备，就当前西方对华光刻机出口限制政策，抛出了一番充满矛盾的“技术制衡论”，引发行业广泛关注。