前段时间半导体圈有个事儿挺有意思，英特尔被曝在2024年悄悄囤了不少ASML的High-NA光刻机。 要知道这设备一台就得上亿美元，而且全球没几家能拿到货。 英特尔这波操作，让不少人猜：这是要干嘛？ 半导体行业这些年日子不好过。

2023年末，ASML向英特尔交付了首台High-NA EUV光刻机，型号为TWINSCAN EXE:5000的系统。英特尔将其作为试验机，于2024年月在美国俄勒冈州希尔斯伯勒的Fab D1X完成安装。这里是英特尔半导体技术研发基地，可以更好地了解High-NA EUV设备的使用，获得宝贵的经验。英特尔宣布，已安装了新的TWINSCAN ...

ASML将与客户合作，力争在明年实现高NA机床的稳定运行，最大限度地减少停机时间。Fouquet预计，高NA光刻机将在2027年和2028年实现大规模量产。未来十年，ASML还将推出一项名为Hyper NA的更先进的技术。目前，该技术的研究工作已经启动。

12月19日消息，据Wccftech报道，英特尔目前已准备好将其最为先进的Intel 14A工艺节点向广泛外部客户开放。广发证券香港的分析显示，英伟达（NVIDIA）和AMD计划将该工艺应用到自己的下一代服务器CPU产品当中。而在此之前还有传闻称，英特尔赢得了代工苹果公司AI服务器芯片的订单。

High NA型是当前EUV光刻机的下一代产品，主要是NA指标从0.33提升到了0.55，可以进一步提升光刻分辨率，但是成本提升也是巨大的， 一台售价要4亿美元，约合28亿元， 比当前EUV光刻机1.5-2亿美元的价格翻倍还多。

ASML首席执行官克里斯托夫・富凯（Christophe Fouquet）近日在公司总部接受媒体专访时透露，High NA极紫外（EUV）光刻机的商业化进程正按计划推进，预计将于2027至2028年间全面应用于先进芯片制造的大规模量产。这一技术突破被视为半导体行业迈向更小制程节点的关键一步。