ASML Developing Next-Gen EUV Lithography
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ASML Developing Next-Gen EUV Lithography
Productivity gains will continue through the next two or three chip generations, but after that we’ll need something bigger and better
2018年12月5日
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＼ASML Tech｜ASMLの"光速"半導体製造／ 「1秒間に映画100本以上を配信する速さ」 これは、ASMLの最新鋭装置で実際に行われている、驚異的なデータ転送速度に匹敵します。 ASMLのHigh-NA EUV露光装置では、光を用いてレチクルと呼ばれる設計図をウェハに転送しています。このような超高速・超高精度な技術があるからこそ、最先端デバイスの心臓部となる半導体チップの量産が可能になっているのです。 技術の進化に終わりはありません。 ASMLは、さらなる革新を目指して挑戦を続けています。 #ASML #BePartOfProgress | ASML
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＼ASML Tech｜1秒間に5万回生成されるEUV（極端紫外線光）／ スマートフォンやパソコンの頭脳となる半導体チップ。その製造過程をご存じですか？ ASMLのHigh-NA EUV露光装置は、現代の技術の粋を集めた機械。極小のチップパターンを量産するために、精密な技術が組み合わさっています。その中の1つが、ASML独自の技術である「EUV」です。 では4つのステップに分けてご紹介します💡 ーーーーーーーーーーーー ①人間の髪の毛の1/3ほどの小さな錫（すず）の液滴を作り出す ②レーザーを当て液滴をパンケーキのように平らに伸ばす ③再度レーザーを当て、太陽の表面温度の40倍もの温度でプラズマを生成する ④プラズマからEUV光が放射される ーーーーーーーーーーーー この工程を1秒間に5万回も繰り返しているんです😲 私たちの生活をより便利に、より豊かにする最先端チップは、こうした技術に支えられています。 #ASML #BePartOfProgress | ASML
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＼ASML Tech｜EUV露光装置の中には空気がない？／ 露光に使われるEUV光はあらゆるものに吸収されやすい性質を持っています。実は、空気にさえ吸収されてしまい、そのパワーが弱まってしまうのです。 そこでASMLではEUV光のパワーを保つために、光源からウェハに到達するまでの製造工程において、空気がない真空状態にすることを実現しました。装置内を掃除機の約10万倍の負圧にして真空状態にすることで、EUV光が吸収されることを防いでいます。 目には見えない技術によって、精密な半導体は作られているのです。 EUVの独自技術について詳しく知りたい方はこちらへ 👉https://reurl.cc/jvVZW2 #ASML #BePartOfProgress | ASML
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